產(chǎn)品詳情
等離子設(shè)備原理及功能簡介
真空等離子清洗器采用電感耦合式工作原理，利用真空泵達到一定的真空值后，在電感的作用下，形成了活性很高的等離子體，由此產(chǎn)生的等離子體可以達到表面改性清洗處理的效果。
1．等離子表面活化/清洗； 2.等離子處理后粘合;
3. 等離子蝕刻/活化; 4. 等離子去膠;
5. 等離子涂鍍(親水,疏水); 6. 增強邦定性；
7.等離子涂覆； 8.等離子灰化和表面改性等場合。
通過其處理，能夠改善材料表面的浸潤能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。
產(chǎn)品介紹
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名稱 |
中型立式真空等離子機 |
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型號 |
XT-PL60MA |
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外形尺寸（W×H×D） |
1150mm×880mm×1600mm |
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反應(yīng)腔尺寸（W×H×D） |
400×400×450mm |
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真空腔體材料 |
進口316不銹鋼 |
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真空泵 |
進口4L/S |
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角閥 |
北儀 超真空40KF |
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流量控制器及顯示儀 |
sevenstar 0-800ml/min |
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真空顯示規(guī)管及讀取器 |
Pirani |
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射頻電源 |
美國品牌 40KHZ、100KHZ 13.56MHZ 、2.45GHZ |
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PLC系統(tǒng) |
三菱（包括PLC，A/D模組兩組，D/A模塊兩組，溫度模塊） |
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電氣系統(tǒng) |
施耐德 |
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變頻器 |
西門子2KW |
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觸摸屏 |
臺灣威綸真彩10.7寸 |
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陶瓷封裝 |
進口高頻陶瓷 |
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處理氣體 |
O2、Ar2、N2，H2、CF4 |
等離子清洗機，英文叫（Plasma Cleaner）又稱等離子體清洗機,等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機，等離子表面處理機,電漿清洗機，plasma清洗機，等離子去膠機，等離子清洗設(shè)備。適合各種基片、粉體或顆粒狀材料的等離子表面改性處理，包括：等離子清洗、活化、刻蝕、沉積、接枝與聚合等。
真空等離子表面處理設(shè)備簡介
XT系列低溫等離子表面處理設(shè)備-低壓(真空)等離子清洗機由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、自動控制系統(tǒng)等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作室進行抽真空達到0.02-0.03mbar 的真空度，再在高頻發(fā)生器作用下，將氣體進行電離，形成等離子體（物質(zhì)第四態(tài)）。高頻發(fā)生器提供能量使氣體電離成等離子態(tài)。等離子態(tài)顯著的特點是高均勻性輝光放電，根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍色到深紫色的色彩可見光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。
等離子表面處理設(shè)備產(chǎn)品特點
1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無污染。
2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；
3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。
4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能；
5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。
6.全過程可控工藝：所有參數(shù)可由PLC設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進行質(zhì)量控制。
7.處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。
等離子表面處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于
等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。
