石英真空等離子清洗機(jī)XT-SYPL10

一、 等離子體和設(shè)備的工作原理

等離子體是正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進(jìn)分子、光子以及中性粒子組成，是物質(zhì)的第四態(tài)。在等離子體中除了氣體分子、離子和電子外，還有存在受到能量激勵(lì)狀態(tài)電中性的原子或原子團(tuán)(又稱自由基)，以及等離子體發(fā)射出的光線，其中波的長(zhǎng)短、能量的高低,在等離子體與物體表面相互作用時(shí)有著重要的作用。（1）原子團(tuán)等自由基與物體表面的反應(yīng)（2）電子與物體表面的作用（3）離子與物體表面的作用（4）紫外線與物體表面的反應(yīng)

運(yùn)用等離子體的特殊化學(xué)物理特性，等離子清洗設(shè)備的主要用途如下：

1.   去除灰塵和油污、去靜電；

2.   提高表面浸潤(rùn)功能，形成活化表面；

3.   提高表面附著能力、提高表面粘接的可靠性和持久性；

4.   刻蝕物的處理作用.

等離子清洗的作用原理主要是：

（A）對(duì)材料表面的刻蝕作用--物理作用 等離子體中的大量離子、激収態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤(rùn)濕性能。

（B）激活鍵能，交聯(lián)作用

等離子體中的粒子能量在 0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在 0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂，等離子體中的自由基中的這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu)，大大地激活了表面活性。

（C）形成新的官能團(tuán)--化學(xué)作用如果放電氣體中引入反應(yīng)性氣體，那么在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，引入新的官能團(tuán)，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團(tuán)都是活性基團(tuán)，能明顯提高材料表面活性。

等離子體和設(shè)備的工作原理

等離子體是正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進(jìn)分子、光子以及中性粒子組成，是物質(zhì)的第四態(tài)。在等離子體中除了氣體分子、離子和電子外，還有存在受到能量激勵(lì)狀態(tài)電中性的原子或原子團(tuán)(又稱自由基)，以及等離子體發(fā)射出的光線，其中波的長(zhǎng)短、能量的高低,在等離子體與物體表面相互作用時(shí)有著重要的作用。（1）原子團(tuán)等自由基與物體表面的反應(yīng)（2）電子與物體表面的作用（3）離子與物體表面的作用（4）紫外線與物體表面的反應(yīng)

運(yùn)用等離子體的特殊化學(xué)物理特性，等離子清洗設(shè)備的主要用途如下：

1.   去除灰塵和油污、去靜電；

2.   提高表面浸潤(rùn)功能，形成活化表面；

3.   提高表面附著能力、提高表面粘接的可靠性和持久性；

4.   刻蝕物的處理作用.

等離子清洗的作用原理主要是：

（A）對(duì)材料表面的刻蝕作用--物理作用 等離子體中的大量離子、激収態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤(rùn)濕性能。

（B）激活鍵能，交聯(lián)作用

等離子體中的粒子能量在 0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在 0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂，等離子體中的自由基中的這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu)，大大地激活了表面活性。

（C）形成新的官能團(tuán)--化學(xué)作用如果放電氣體中引入反應(yīng)性氣體，那么在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，引入新的官能團(tuán)，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團(tuán)都是活性基團(tuán)，能明顯提高材料表面活性。

石英型真空等離子清洗機(jī)主要由石英真空腔體、高頻等離子發(fā)生器、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、PLC自動(dòng)控制系統(tǒng)等部分組成，采用電感耦合式工作原理，利用真空泵達(dá)到一定的真空值后，在電感的作用下，形成了活性很高的等離子體，由此產(chǎn)生的等離子體可以達(dá)到表面改性清洗處理的效果。等離子態(tài)顯著的特點(diǎn)是高均勻性輝光放電，根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍(lán)色到深紫色的色彩可見光。石英腔體可保證等離子體在狹小的空間里，腔體溫度不升高。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

石英型真空等離子清洗機(jī)采用電感耦合式工作原理，在微波管、零件絕緣方面作用很突出，適用于高潔凈度的敏感產(chǎn)品處理；廣泛地被大中院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)研發(fā)機(jī)構(gòu)，實(shí)驗(yàn)室和企業(yè)小批量試產(chǎn)階段采用。其產(chǎn)品主要應(yīng)用在材料科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)藥材料學(xué)、微流體研究、微電子機(jī)械系統(tǒng)研究、光學(xué)、顯微術(shù)、牙科醫(yī)療等領(lǐng)域中的污染物清除、表面活化、粘合前處理、表面化學(xué)改性、聚合物移植或表面涂覆等方面。該產(chǎn)品能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導(dǎo)體、陶瓷、復(fù)合材料、高分子聚合物等材料，并對(duì)所處理的材料表面帶來表面 超潔凈、殺菌、提高濕潤(rùn)性轉(zhuǎn)變、表面性質(zhì)改變、提高結(jié)合力等處理效果。

二、 設(shè)備主要功能特點(diǎn)

? 石英圓形真空腔體，腔體處理溫度低，避免長(zhǎng)時(shí)間等離子處理造成的腔體溫度過高，確保對(duì)樣品表面沒有造成熱影響。

? 原裝進(jìn)口電源：采用原裝進(jìn)口電源電路技術(shù)，產(chǎn)生高密度等離子體，確保出眾的清洗效果，頻率13.56MHZ,功率0-600W連續(xù)調(diào)節(jié),自動(dòng)阻抗匹配。

? 獨(dú)有放電技術(shù)：特殊處理及特殊結(jié)構(gòu)的放電裝置，確保形成穩(wěn)定均勻的等離子體。

? 密封性卓越的真空腔體設(shè)計(jì)：軍工級(jí)的高真空度真空腔體設(shè)計(jì)及制造工藝，并配置進(jìn)口技術(shù)真空泵運(yùn)行。

? 高精度氣體流量監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，兩種工藝氣體配置(氬氣、氧氣），雙路氣流控制，，比例可調(diào)，采用高精度浮子流量計(jì)、美國(guó)世維洛克氣體管路及閥件。

? 自主研發(fā)的低壓(真空)等離子清洗機(jī)軟件系統(tǒng)，性能穩(wěn)定可靠，操作簡(jiǎn)單，便于維護(hù)，高效便捷。

? 強(qiáng)大的全面安全防護(hù)系統(tǒng)：溫度安全防護(hù)功能，過載防護(hù)功能，短路斷路報(bào)警防護(hù)功能，各種誤操作保護(hù)功能。

? 優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品部件：產(chǎn)品部件采用國(guó)內(nèi)外頂尖優(yōu)質(zhì)品牌，確保設(shè)備性能優(yōu)越。

? 數(shù)字計(jì)時(shí)單元：0~99.9小時(shí)選擇范圍時(shí)間顯示，處理過程結(jié)束后自動(dòng)終止

? 精密數(shù)控加工：進(jìn)口精密CNC數(shù)控機(jī)床加工工藝，并經(jīng)過進(jìn)口三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x進(jìn)行質(zhì)量監(jiān)控。

? 適用形狀復(fù)雜樣品：清洗各種復(fù)雜形狀的產(chǎn)品，包括內(nèi)孔內(nèi)壁，全方位均勻清洗。

? 處理全程無污染 ，等離子清洗機(jī)本身是很環(huán)保的設(shè)備，無產(chǎn)生任何污染，處理過

程也無產(chǎn)生任何污染?？梢耘c原有生產(chǎn)流水線搭配，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)在線生產(chǎn)，節(jié)約人力

成本。

三、 設(shè)備主要參數(shù)

四、 設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：

石英型真空等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于：

1．等離子表面活化/清洗；   2.等離子處理后粘合;

3. 等離子蝕刻/活化;         4. 等離子去膠;

5. 等離子涂鍍(親水,疏水);   6. 增強(qiáng)邦定性；

7.等離子涂覆；      8.等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。

通過其處理，能夠改善材料表面的浸潤(rùn)能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。

等離子腔體氣體反應(yīng)作用，工藝配方參考：常用氧氣+氬氣