harmonic熱處理諧波傳動CSF-11-50-2A-R

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第14年

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詳細參數
品牌HarmonicDrive型號CSF-11-50-2A-R
類型無級減速器載荷狀態(tài)中等沖擊載荷
傳動比級數單級軸的相對位置立式加速器
傳動布置形式擺線式加工定制是
樣品或現貨現貨齒面硬度軟齒面
布局形式擺線式用途變速機
輸入轉速1450rpm額定功率360kw
輸出轉速范圍50rpm許用扭矩691N.m
使用范圍化工減速比34
產地日本

產品詳情

擴散在高溫擴散爐中進行，harmonic熱處理諧波傳動CSF-11-50-2A-R在高溫爐中完成擴散的三個步驟。高溫爐設備結構見節(jié)熱處理工藝單元設備。

通過物理注入方式向硅襯底引入一定數量的雜質harmonic熱處理諧波傳動CSF-11-50-2A-R，將改變硅片的電學性能。離子注入的主要用途是摻雜半導體材料。目前離子注入方法優(yōu)于擴散工藝，成為半導體摻雜工藝的主要方法。

1.離子注入機

離子注入工藝在離子注入機內進行。離子注入機結構如圖2.20所示，一般離子注入機設備包括5個部分。 

（1） 離子源。注入離子在離子源中產生，harmonic熱處理諧波傳動CSF-11-50-2A-R正離子由雜質氣態(tài)源或固態(tài)源的蒸汽產生。

引出電極（吸級）和離子分析器。離子通過離子源上的一個窄縫被吸出組件吸引。注入機中的磁性離子分析器能將需要的雜質離子從混合的離子束中分離出來。

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