產(chǎn)品詳情
一般業(yè)界已使用垂直度極佳,harmonic金屬光阻諧波CSF-32-50-2A-GR然而價格極昂之干蝕刻機來解決這個問題(價昂是因為要用到含氯之反應(yīng)氣體,所有管路都要考慮防腐蝕)。但學(xué)術(shù)研發(fā)單位,在沒有干蝕刻機情況下,一樣可以作出次微米之金屬線,這個方法稱為「金屬剝離或舉離法」(lift-off)。
調(diào)整芯片鍍金屬與上光阻的順序:首先旋敷光阻,harmonic金屬光阻諧波CSF-32-50-2A-GR以光蝕術(shù)將欲鍍著金屬線路之區(qū)域開出窗口(該光罩恰與酸液蝕刻的光罩明暗相反),再進行金屬鍍著的工作。此時,大部份金屬可能都鍍著在光阻上。所以金屬鍍著后,只要將芯片浸入丙酮,在光阻遭有機溶劑harmonic金屬光阻諧波CSF-32-50-2A-GR溶散之際,其上之金屬也跟著被抬離芯片,而只留下沒有光阻,也就是原來設(shè)計之金屬線路。