產(chǎn)品詳情
◇磁場(chǎng)大小可以調(diào)節(jié)
◇等離子體密度高
◇沉積效率高
◇涂層結(jié)合力強(qiáng)
◇模塊化設(shè)計(jì),安裝拆卸簡(jiǎn)單方便
◇靶材使用率高,成本降低
◇量身定做個(gè)性化方案和設(shè)備
◇可鍍制TiN、TiCN、TiCrN、TiAlCrN、TiAlN、 AlTiCN、CrN、ZrN、a-C:H:W/a-C:H
D100電磁弧鍍膜設(shè)備 NH-ARC系列 |
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NH-ARC850TES |
NH-ARC1000TES |
NH-ARC1100TES |
真空室尺寸 |
D850X900 |
D1000X1100 |
D1100X1200 |
均勻可鍍區(qū) |
D500XH500 |
D650XH650 |
D780XH780 |
極限真空度 |
3.0*E-4Pa |
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壓升率 |
0.1Pa/hr |
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轉(zhuǎn)架形式 |
標(biāo)配兩套轉(zhuǎn)架系統(tǒng)+周轉(zhuǎn)小車 采用整進(jìn)整出形式 |
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沉積裝置 |
D100永磁+線圈電弧 |
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離子輔助裝置 |
N-IGET弧離子刻蝕 |
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真空檢測(cè) |
復(fù)合真空計(jì)+薄膜真空規(guī) |
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加熱系統(tǒng) |
500℃,3根熱電偶監(jiān)測(cè) |
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控制系統(tǒng) |
觸摸式 手動(dòng) 全自動(dòng) 帶自動(dòng)暖機(jī) 智能無(wú)人值守關(guān)機(jī)聯(lián)動(dòng)系統(tǒng) |
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冷卻水循環(huán)系統(tǒng) |
配日本SMC水流開(kāi)關(guān),智能控制 IPC+PLC全自動(dòng)控制 |
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生產(chǎn)運(yùn)行周期 |
涂層(3um),5-6小時(shí)/爐 |
涂層(3um), 6-8小時(shí)/爐 |
涂層(3um), 6-8小時(shí)/爐 |
極限載重 |
300KG |
500KG |
800KG |