產(chǎn)品詳情
奧林巴斯BX53-P偏光顯微鏡專為高精度偏振光觀測而開發(fā)，集成了UIS2無窮遠校正光學(xué)系統(tǒng)與低應(yīng)力光學(xué)元件，在工業(yè)材料分析領(lǐng)域展現(xiàn)出優(yōu)異性能。該系統(tǒng)適用于晶體結(jié)構(gòu)、復(fù)合材料、礦物薄片及其他各向異性樣品的觀察與定量評估。
其核心優(yōu)勢在于高度穩(wěn)定的光學(xué)路徑設(shè)計。UIS2架構(gòu)在引入檢偏器、補償器或波片等偏振組件時，仍能維持成像質(zhì)量不衰減，并有效避免因附加元件引起的放大倍率偏差。這一特性保障了從常規(guī)觀測到復(fù)雜干涉圖分析過程中的一致性與準確性。同時，系統(tǒng)兼容BX3系列中間附件及各類工業(yè)相機與數(shù)字成像設(shè)備，便于無縫集成至自動化檢測流程。
BX53-P配備可調(diào)焦Bertrand透鏡，支持明場（orthoscopic）與錐光（conoscopic）模式快速切換，清晰呈現(xiàn)后焦面干涉圖樣。結(jié)合視場光闌優(yōu)化，可穩(wěn)定獲取高對比度的錐光圖像，滿足對晶體取向與雙折射特性的精細解析需求。
為提升測量靈活性，系統(tǒng)提供六種補償器選項，延遲量程覆蓋0至20λ（約11000 nm）。其中，Berek與Senarmont補償器支持全視場內(nèi)連續(xù)調(diào)節(jié)延遲值，適用于高對比成像與精確雙折射量化；Brace-Koehler系列則針對微弱雙折射信號提供亞納米級靈敏度。配合546 nm干涉濾光片使用，可進一步提升測量重復(fù)性與精度。
機械結(jié)構(gòu)方面，BX53-P搭載高精度旋轉(zhuǎn)載物臺，內(nèi)置45°定位卡位及中心調(diào)節(jié)機構(gòu)，確保樣品旋轉(zhuǎn)過程平穩(wěn)精準。選配雙機械移動平臺后，可在X-Y方向?qū)崿F(xiàn)微米級精確定位，適用于大面積樣品的系統(tǒng)性掃描與比對分析。
憑借低應(yīng)變物鏡、模塊化擴展能力與可靠的機械設(shè)計，BX53-P為材料科學(xué)、地質(zhì)分析及先進制造領(lǐng)域提供了高效、精準的偏振光檢測解決方案。
奧林巴斯光學(xué)顯微鏡：https://industrial.evidentscientific.com.cn/zh/microscope/opt/
產(chǎn)品鏈接：https://industrial.evidentscientific.com.cn/zh/microscope/bx53-p/
