產(chǎn)品詳情
氧化亞硅爐是一款適用于工礦企業(yè)、科研院所做實驗、中試、產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)使用，其主要針對針對碳材料(活性炭、石墨烯、碳納米管)，鋰離子電池正負(fù)極材料，稀土功能材料，金屬結(jié)構(gòu)材料等新興材料專用外熱式回轉(zhuǎn)爐。具有良好的密封措施和爐膛負(fù)壓，爐內(nèi)溫度可達1400℃。
該設(shè)備為咸陽鴻峰窯爐設(shè)備有限公司開發(fā)的，專業(yè)應(yīng)用于硅碳原材料一氧化硅制備的設(shè)備。
該設(shè)備主要應(yīng)用于氣相法（CVD法）制備氧化亞硅
該設(shè)備溫控精度1度。
該設(shè)備溫度控制2000度以內(nèi)。
該設(shè)備升溫速率快。
該設(shè)備可以可以在10-3的真空度下保持穩(wěn)定
該設(shè)備產(chǎn)量大
該設(shè)備能耗低
該設(shè)備經(jīng)過業(yè)內(nèi)驗證，做出的材料品質(zhì)良好
設(shè)備參數(shù)
1 名稱 HF-RS-A（氧化亞硅專用升華爐）
2 爐型 臥室
3 設(shè)備組成 升華系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、機械系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)
4 升華系統(tǒng)由燒結(jié)區(qū)和收集區(qū)組成。 收集倉的材質(zhì)由客戶
5 溫控系統(tǒng)采用 PLC 觸屏控制方式
6 加熱系統(tǒng)該設(shè)備采用電阻絲加熱
7 真空系統(tǒng)真空泵真空閥門及管路組成
8 機械部分區(qū)外殼采用 304 不銹鋼制作
9 冷卻系統(tǒng) 該設(shè)備配置兩段的冷卻系統(tǒng)
10 外形尺寸 1600mm*700mm*1600mm (終以設(shè)計尺寸為主)
