產品詳情
昆山化妝品純水，純水設備，偉志水處理 張 15312197603
化妝品用純化水設備；水是化妝品的重要組成部分?；瘖y品用水的質量標準直接影響著化妝品的安全性、可靠性及產品質量。文中講述了化妝品用水的要求，水的預處理以及水中離子的去除，重點講述了反滲透和離子交換工藝設備，我公司可提供0.5-100T/H化妝品用水設備。
超純水設備 高純水設備 反滲透技術 反滲透設備 純水設備
化妝品生產用水的要求:
水是化妝品的重要組成部分?；瘖y品用水的質量標準直接影響著化妝品的安全性、可靠性及產品質量。我公司可提供0.5-50T/H化妝品用水設備。
化妝品生用水的主要要求包含以下兩個方面：
１、無機離子濃度
化妝品用水需去除水中的無機離子,達到純水要求,使含鹽量降至1mg/L以下,即電導率需降低至1~５μS/cm2.
２、微生物的污染
化妝品衛(wèi)生標準規(guī)定:一般化妝品細菌總數(shù)不得大于1000個/mL或1000個/g;眼部,口唇,口腔粘膜用化妝品及嬰兒和兒童用化妝品細菌總數(shù)不得大于500個/mL或500個/g,而糞大腸菌群,綠膿桿菌和金黃色葡萄球菌不得檢出.
反滲透技術如下優(yōu)點：
①不需加熱、沒有相變； ②能耗少； ③設備體積小、操作簡單，適應性強； ④對環(huán)境不產生污染。
反滲透純水系統(tǒng)根據(jù)不同的源水水質采用不同的工藝。一般自來水經一級反滲透系統(tǒng)處理后，產水電導率＜10μS/cm，經二級反滲透系統(tǒng)后產水電導率 ＜5μS/cm甚至更低， 一般在單級反滲透系統(tǒng)后輔以混合離子交換設備或EDI設備可以制備符合化妝品用水要求的去離子水。
EDI系統(tǒng)可以替代混床后作反滲透后的精除鹽系統(tǒng)，該方法EDI可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術（MB-DI）生產穩(wěn)定的去離子水。
化妝品用純化水設備；水是化妝品的重要組成部分?；瘖y品用水的質量標準直接影響著化妝品的安全性、可靠性及產品質量。文中講述了化妝品用水的要求，水的預處理以及水中離子的去除，重點講述了反滲透和離子交換工藝設備，我公司可提供0.5-100T/H化妝品用水設備。
超純水設備 高純水設備 反滲透技術 反滲透設備 純水設備
化妝品生產用水的要求:
水是化妝品的重要組成部分?；瘖y品用水的質量標準直接影響著化妝品的安全性、可靠性及產品質量。我公司可提供0.5-50T/H化妝品用水設備。
化妝品生用水的主要要求包含以下兩個方面：
１、無機離子濃度 化妝品用水需去除水中的無機離子,達到純水要求,使含鹽量降至1mg/L以下,即電導率需降低至1~５μS/cm2.
２、微生物的污染
化妝品衛(wèi)生標準規(guī)定:一般化妝品細菌總數(shù)不得大于1000個/mL或1000個/g;眼部,口唇,口腔粘膜用化妝品及嬰兒和兒童用化妝品細菌總數(shù)不得大于500個/mL或500個/g,而糞大腸菌群,綠膿桿菌和金黃色葡萄球菌不得檢出.
反滲透技術如下優(yōu)點：
①不需加熱、沒有相變； ②能耗少； ③設備體積小、操作簡單，適應性強； ④對環(huán)境不產生污染。
反滲透純水系統(tǒng)根據(jù)不同的源水水質采用不同的工藝。一般自來水經一級反滲透系統(tǒng)處理后，產水電導率＜10μS/cm，經二級反滲透系統(tǒng)后產水電導率 ＜5μS/cm甚至更低， 一般在單級反滲透系統(tǒng)后輔以混合離子交換設備或EDI設備可以制備符合化妝品用水要求的去離子水。
EDI系統(tǒng)可以替代混床后作反滲透后的精除鹽系統(tǒng)，該方法EDI可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術（MB-DI）生產穩(wěn)定的去離子水。
