產(chǎn)品詳情
光電行業(yè)對(duì)水質(zhì)的要求:新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對(duì)水質(zhì)的要求也越高,這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
應(yīng)用場(chǎng)合: v 電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗 v 電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 v 顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水 v 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水 v 液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液 v 晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制 v 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片 v 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路 v LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏 v 高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn) v 半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗 v 超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料 v 實(shí)驗(yàn)室和中試車間 v 汽車、家電表面拋光處理 v 光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品四、
典型電子級(jí)超純水制備工藝:
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)
3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥17MΩ.CM)
設(shè)備特點(diǎn) 為滿足用戶需要,達(dá)到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì),盡可能地減少各級(jí)的污染,延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護(hù)工作量.在工藝設(shè)計(jì)上,取達(dá)國(guó)家自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水,再設(shè)有介質(zhì)過(guò)濾器,活性碳過(guò)濾器,鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等。 系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無(wú)人職守,同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法,使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。