產(chǎn)品詳情
紫外線是陽光中頻率為750THz～30PHz，對(duì)應(yīng)真空中波長為400nm～10nm（納米）的光線。英語為ultraviolet（縮寫為UV），紫外線的英文名是Ultraviolet，其中的ultra-意為“高于，超越”。太陽光譜上，紫外線的頻率高于可見光線?？梢苑譃?
① UVA:320nm-400nm，常用365nm，用于美甲，驗(yàn)鈔，誘蟲。
② UVB:275nm-320nm，常用300nm，幫助動(dòng)植物生長。
③ UVC:200nm-275nm，常用253.7nm，透紫外殺菌。
紫外線是由原子的外層電子受到激發(fā)后產(chǎn)生的。自然界的主要紫外線光源是太陽，太陽光透過大氣層時(shí)波長短于290nm的紫外線為大氣層中的臭氧吸收掉。
人工的紫外線光源有多種氣體的電?。ㄈ绲蛪汗?、高壓汞?。?，紫外線有化學(xué)作用能使照相底片感光，熒光作用強(qiáng)，日光燈、各種熒光燈和農(nóng)業(yè)上用來誘殺害蟲的黑光燈都是用紫外線激發(fā)熒光物質(zhì)發(fā)光的。紫外線還可以防偽，紫外線還有生理作用，能殺菌、消毒、治療皮膚病和軟骨病等。紫外線的粒子性較強(qiáng)，能使各種金屬產(chǎn)生光電效應(yīng)。
生理效應(yīng)
當(dāng)紫外線照射人體或生物體后，發(fā)生生理變化。不同頻率的紫外線的生理作用不同。根據(jù)紫外線對(duì)生物作用，在醫(yī)療上把紫外線劃分為不同的波段：
黑斑紫外線（曲線A）在400nm～320nm波段；
紅斑紫外線或保 健射線（曲線B）在320nm～280nm波段；
滅菌紫外線（曲線C）在280nm～200nm波段；
致臭氧紫外線（曲線D）在200nm～100nm波段。
紫外線的致黑斑作用：波長在400nm～320nm的紫外線又叫低頻長波紫外線。該波段的紫外線生物作用較弱，但它對(duì)人體照射后使皮膚變黑，皮膚有明顯的色素沉著作用，這就是紫外線的黑斑作用。該波段的紫外線可強(qiáng)烈地刺激皮膚，使皮膚新陳代謝加快、皮膚生長力加強(qiáng)和使皮膚加厚。A波紫外線是治療皮膚病的重要波段，、白癜風(fēng)等疾病。
紫外線對(duì)人眼有強(qiáng)烈的刺激作用，因其波長短，頻率高，能量高，在眼睛視網(wǎng)膜區(qū)域的穿透力強(qiáng)，長時(shí)間照射可以使視網(wǎng)膜發(fā)生黃斑性病變。紫外線還是導(dǎo)致“雪盲癥”的罪魁禍?zhǔn)祝┟ぐY是指在強(qiáng)烈的陽光照射下，或者在雪地，高山等強(qiáng)烈反射陽光的地方，人的眼睛會(huì)感到刺痛，不舒服的現(xiàn)象，這就是陽光中所包含的大量紫外線和藍(lán)紫光造成的，所以在攀登雪山或極地探險(xiǎn)時(shí)，往往需要戴護(hù)目鏡來防止紫外線對(duì)眼睛的傷害。電子產(chǎn)品中往往也會(huì)有少量的紫外線和大量接近于紫外線頻段的紫光和藍(lán)光，長時(shí)間使用電子產(chǎn)品，這些高能紫外線和藍(lán)紫光對(duì)人眼睛也會(huì)造成巨大且不可逆的傷害，進(jìn)而產(chǎn)生視力下降，視線模糊、發(fā)黃、昏暗等現(xiàn)象，并且可能會(huì)造成黃斑性病變。所以連續(xù)使用電子產(chǎn)品的時(shí)間盡量不要超過3個(gè)小時(shí)，過了3個(gè)小時(shí)后要休息一下眼睛，看看窗外或到戶外走走，避免視疲勞。此外開啟護(hù)眼模式（防藍(lán)光模式）或夜間模式也能有效防止紫外線和藍(lán)紫光對(duì)人眼睛的傷害。
電子領(lǐng)域
紫外線可用于光刻設(shè)備，用于生產(chǎn)電子芯片，如EUV光刻機(jī)采用的是EUV超高頻紫外線（極紫外線），由于其波長極短，分辨率高，可以用于光刻機(jī)，生產(chǎn)極短制程的CPU和各種電子芯片，紫外光刻是電子工業(yè)的重要生產(chǎn)技術(shù)之一。
化學(xué)領(lǐng)域
涂料固化，顏料固化，光刻。儀器分析：礦石，藥物，食品分析。
工業(yè)領(lǐng)域
在表面清洗處理中的應(yīng)用
由于大功率超高功率低氣壓UV放電管開發(fā)的進(jìn)展，以及隨著微電子等產(chǎn)品的超微細(xì)化，在微電子、超精密器件等產(chǎn)品的制造過程中，由高頻短波紫外線及其產(chǎn)生的臭氧對(duì)其產(chǎn)品的表面進(jìn)行超精密清洗或改善其表面的接著性、附著性的干式光表面處理技術(shù)的實(shí)用化進(jìn)展得很快。需要提高成品率的半導(dǎo)體器件、液晶表示元件、光學(xué)制品等制造中，紫外線UV和O3臭氧并用的干式光表面處理技術(shù)已成不可缺少的技術(shù)手段。作為氟利昂的替代技術(shù)，光表面清洗技術(shù)將逐漸取代濕式的傳統(tǒng)技術(shù)。
