內(nèi)蒙古單晶硅超純水設(shè)備

內(nèi)蒙古單晶硅超純水設(shè)備【邊虹玉17714225379】

從19世紀(jì)科學(xué)家們發(fā)現(xiàn)了晶體硅的半導(dǎo)體特性后，它幾乎改變了一切，甚至人類的思維。直到上世紀(jì)60年代開(kāi)始，硅材料就取代了原有鍺材料。硅材料因其具有耐高溫和抗輻射性能較好，特別適宜制作大功率器件的特性而成為應(yīng)用多的一種半導(dǎo)體材料，目前的集成電路半導(dǎo)體器件大多數(shù)是用硅材料制造的。

現(xiàn)在，我們的生活中處處可見(jiàn)“硅”的身影和作用，晶體硅太陽(yáng)能電池是近15年來(lái)形成產(chǎn)業(yè)化快的。

熔融的單質(zhì)硅在凝固時(shí)硅原子以金剛石晶格排列成許多晶核，如果這些晶核長(zhǎng)成晶面取向相同的晶粒，則這些晶粒平行結(jié)合起來(lái)便結(jié)晶成單晶硅。

單晶硅的制法通常是先制得多晶硅或無(wú)定形硅，然后用直拉法或懸浮區(qū)熔法從熔體中生長(zhǎng)出棒狀單晶硅。單晶硅棒是生產(chǎn)單晶硅片的原材料，隨著國(guó)內(nèi)和國(guó)際市場(chǎng)對(duì)單晶硅片需求量的快速增加，單晶硅棒的市場(chǎng)需求也呈快速增長(zhǎng)的趨勢(shì)。

單晶硅圓片按其直徑分為6英寸、8英寸、12英寸（300毫米）及18英寸（450毫米）等。直徑越大的圓片，所能刻制的集成電路越多，芯片的成本也就越低。但大尺寸晶片對(duì)材料和技術(shù)的要求也越高。單晶硅按晶體生長(zhǎng)方法的不同，分為直拉法（CZ）、區(qū)熔法（FZ）和外延法。直拉法、區(qū)熔法生長(zhǎng)單晶硅棒材，外延法生長(zhǎng)單晶硅薄膜。直拉法生長(zhǎng)的單晶硅主要用于半導(dǎo)體集成電路、二極管、外延片襯底、太陽(yáng)能電池。目前晶體直徑可控制在Φ3~8英寸。區(qū)熔法單晶主要用于高壓大功率可控整流器件領(lǐng)域，廣泛用于大功率輸變電、電力機(jī)車、整流、變頻、機(jī)電一體化、節(jié)能燈、電視機(jī)等系列產(chǎn)品。目前晶體直徑可控制在Φ3~6英寸。外延片主要用于集成電路領(lǐng)域。

由于成本和性能的原因，直拉法（CZ）單晶硅材料應(yīng)用廣。在IC工業(yè)中所用的材料主要是CZ拋光片和外延片。存儲(chǔ)器電路通常使用CZ拋光片，因成本較低。邏輯電路一般使用價(jià)格較高的外延片，因其在IC制造中有更好的適用性并具有消除Latch－up的能力。

單晶硅也稱硅單晶，是電子信息材料中基礎(chǔ)性材料，屬半導(dǎo)體材料類。單晶硅已滲透到國(guó)民經(jīng)濟(jì)和國(guó)防科技中各個(gè)領(lǐng)域，當(dāng)今全球超過(guò)2000億美元的電子通信半導(dǎo)體市場(chǎng)中95%以上的半導(dǎo)體器件及99%以上的集成電路用硅。

多晶硅是由許多硅原子及許多小的晶粒組合而成的硅晶體。由于各個(gè)晶粒的排列方向彼此不同，其中有大量的缺陷。多晶硅一般呈深銀灰色，不透明，具有金屬光澤，性脆，常溫下不活潑。

多晶硅是用金屬硅(工業(yè)硅)經(jīng)化學(xué)反應(yīng)、提純,再還原得到的高純度材料(也叫還原硅)。目前世界上多晶硅生產(chǎn)的方法主要有改良西門(mén)子法(SiHCl3)、新硅烷法(SiH4)、SiH2Cl2熱分解法、SiCl4法等多晶硅生產(chǎn)工藝。

當(dāng)前全球多晶硅的市場(chǎng)狀況是：從國(guó)際上來(lái)看，早幾年多晶硅還處于供過(guò)于求的局面，2004年開(kāi)始，由于太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，太陽(yáng)能用多晶硅供不應(yīng)求，導(dǎo)致全球多晶硅供應(yīng)緊張。在國(guó)內(nèi)，我國(guó)多晶硅生產(chǎn)長(zhǎng)期不能滿足國(guó)內(nèi)市場(chǎng)需要，嚴(yán)重依賴于進(jìn)口。

單晶硅和多晶硅生產(chǎn)工藝用超純水設(shè)備的專業(yè)生產(chǎn)廠商，單晶硅超純水設(shè)備的具體參數(shù)如下：

單晶硅多晶硅清洗超純水設(shè)備，單晶硅多晶硅超純水設(shè)備，硅片硅材料清洗超純水設(shè)備處理工藝：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→CEDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

設(shè)備處力：按客戶要求設(shè)計(jì)

出水指標(biāo)：≥16-18.2MΩ．CM

產(chǎn)水用途：電子、單晶硅/多晶硅用工業(yè)超純水、純水、單晶硅多晶硅清洗超純水、硅片硅材料清洗超純水

在設(shè)備設(shè)計(jì)上，采用成熟、可靠、先進(jìn)、自動(dòng)化程度高的兩級(jí)RO＋EDI水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)符合要求，水利用率高，運(yùn)行可靠，經(jīng)濟(jì)合理。關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用國(guó)際主流先進(jìn)可靠產(chǎn)品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統(tǒng)自動(dòng)化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護(hù)成本。使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。