產(chǎn)品詳情
濕氧氧化和水汽氧化都要用到高純?nèi)ルx子水,harmonic自動清洗機諧波CSF-11-30-2A-R如果去離子水的純度不夠高或者水浴瓶等容器沾污的話,就會使氧化膜的質(zhì)量受到影響,為此將適當(dāng)比例混合的高純氫氣和氧氣通入氧化爐,在高溫下先合成水汽,然后再與硅反應(yīng)生成二氧化硅,就能得到高質(zhì)量的二氧化硅薄膜。
2、摻氯氧化法
在氧化氣氛中添加微量harmonic自動清洗機諧波CSF-11-30-2A-R氯元素進行二氧化硅薄膜生長,能降低鈉離子沾污,抑制鈉離子漂移,獲得高質(zhì)量的氧化膜,提高器件電性能和可靠性。常用的氯源有干燥高純的氣(Cl2)或氯化氫(HCl)和高純的三氯乙烯(C2HCl3,液態(tài))。摻氯氧化一般采用干氧氧化進行,這是因為水的存在會使氯不能結(jié)合到氧化膜中去harmonic自動清洗機諧波CSF-11-30-2A-R,起不到降低可動鈉離子、清潔氧化膜的作用,而且容易腐蝕硅片表面。