哈默納科高分子加工諧波CSG-65-160-2A-GR ?

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第13年

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詳細參數(shù)
品牌HarmonicDrive型號CSG-65-160-2A-GR,
類型諧波減速器載荷狀態(tài)中等沖擊載荷
傳動比級數(shù)無級軸的相對位置立式加速器
傳動布置形式同軸式加工定制否
樣品或現(xiàn)貨樣品齒面硬度軟齒面
布局形式同軸式用途減速機
輸入轉(zhuǎn)速1400rpm額定功率111kw
輸出轉(zhuǎn)速范圍40rpm許用扭矩22N.m
使用范圍水泥減速比84
產(chǎn)地日本

產(chǎn)品詳情

印刻是在覆蓋半導體芯片表面的光敏感材料薄層(稱為光阻)印上幾何鑄型。哈默納科高分子加工諧波CSG-65-160-2A-GR 不同的光阻鑄型不止一次的印刻在晶層上，以形成元件圖樣。再經(jīng)蝕刻程序獲得各不同區(qū)，以便進行植入、擴散等前幾節(jié)所敘述的步驟。

光阻化合物對輻射具敏感性，可區(qū)分為正光阻及負光阻。正哈默納科高分子加工諧波CSG-65-160-2A-GR 光阻經(jīng)過光照后，曝光區(qū)可以化學物質(zhì)(去光阻劑或顯影液)溶解除去；負光阻正好相反。正光阻的組成有三：對光敏感化合物、樹脂及有機溶劑。負光阻是含光敏感組成的高分子

晶圓上光阻后，經(jīng)曝光處理，再由顯影液將曝光區(qū)的正光阻溶解、洗哈默納科高分子加工諧波CSG-65-160-2A-GR 凈、涼干，再經(jīng)蝕刻去除曝光區(qū)的絕緣層，而未曝光區(qū)的光阻則不受蝕刻影向，最后除去剩余光阻，可用溶液(如H2SO4+H2O2槽)或電漿氧化


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