產(chǎn)品詳情
濺射臺(tái) 以離子束濺射為例,它由離子源、離子引出極和沉積室3大部分組成,日本HD真空離子諧波CSF-17-50-2UH在高真空或超高真空中濺射鍍膜法。利用直流或高頻電場(chǎng)使惰性氣體(通常為氬)發(fā)生電離, 產(chǎn)生輝光放電等離子體,電離產(chǎn)生的正離子和電子高速轟擊靶材,使靶材上的原子或分子濺射出來(lái),然后沉積到基板上形成薄膜。 磁控濺射 磁控濺射技術(shù)日本HD真空離子諧波CSF-17-50-2UH已經(jīng)成為沉積耐磨、耐蝕、裝飾、光學(xué)及其他各種功能薄膜的重要手段.探討了磁控濺射技術(shù)在非平衡磁場(chǎng)濺射、脈沖磁控濺射等方面的進(jìn)步,說(shuō)明利 用新型的磁控濺射技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜的高速沉積、高純薄膜制備、提高反應(yīng)濺射沉積薄膜的質(zhì)量等,并進(jìn)一步日本HD真空離子諧波CSF-17-50-2UH取代電鍍等傳統(tǒng)表面處理技術(shù)