產(chǎn)品詳情
如激光器、 發(fā)光二極管、高效太陽能電池哈默納科微機加工諧波CSF-17-50-2UH、光電陰極的制備,是光電子等產(chǎn)業(yè)不可缺少的設(shè)備。
LPCVD LPCVD工藝在襯底表面淀積一層均勻的介質(zhì)薄膜,哈默納科微機加工諧波CSF-17-50-2UH用作微機械結(jié)構(gòu)層材料、犧牲層、絕緣層、掩模材料,LPCVD工藝淀積的材料有多晶硅、氮化硅、磷硅玻 璃。不同的材料淀積采用不同的氣體。
PVD PVD(物理氣相沉積)涂層也被證明有效加工高溫合金。哈默納科微機加工諧波CSF-17-50-2UHTiN(氮化鈦)PVD涂層是最早使用的并仍然是最受歡迎的。最近,TiAlN(氮鋁化鈦)和 TiCN(碳氮化鈦)涂層也能很好使用。過去TiAlN涂層應(yīng)用范圍和TiN相比限制更多。但是當(dāng)切削速度提高后它們是一個很好的選擇,在那些應(yīng)用提高生 產(chǎn)率達40%。