產(chǎn)品詳情
石家莊設(shè)計(jì)肌醇廠臭味處理方案
化工肌醇廠臭味處理設(shè)備 肌醇臭氣凈化方案，低溫等離子廢氣凈化器是采用***的吸附-分解-碳化***工藝技術(shù)設(shè)計(jì)，采用標(biāo)準(zhǔn)模塊設(shè)計(jì)等優(yōu)點(diǎn)，是一種干法廢氣處理設(shè)備，它改變了使用活性炭材料的工藝技術(shù)，無需專人負(fù)責(zé)，不產(chǎn)生二次污染，更換及維護(hù)保養(yǎng)方便（可在設(shè)備正常運(yùn)行情況下更換維護(hù)操作）。
低溫等離子凈化器是利用等離子體，以每秒800萬次至5000萬次的速度反復(fù)轟擊異味氣體的分子，去***、電離、裂解廢氣中的各種成份，從而發(fā)生氧化等一系列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，再經(jīng)過液體吸收單元、水霧過濾網(wǎng)、等離子體單元、催化單元等多級(jí)凈化，將硫氧化物、氮氧化物等氣態(tài)污染物轉(zhuǎn)化為潔凈的空氣釋放至大自然。
等離子原理概述：等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些***情況下可以以第四中狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，又稱為物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于***狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；分子解離反應(yīng)過程中生成的紫外線；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
等離子清洗/刻蝕技術(shù)是等離子體特殊性質(zhì)的具體應(yīng)用。等離子清洗/刻蝕機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)。肌醇廠臭味處理，臭氣凈化方案，肌醇臭氣凈化。
