微型PECVD系統(tǒng)BTF-1200C-S-PECVD

數(shù)量(臺) 價格
1 1.00元/臺
  • 最小起訂: 1臺
  • 發(fā)貨地址: 安徽 合肥市
  • 發(fā)布日期:2019-12-25
  • 訪問量:723
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安徽貝意克設(shè)備技術(shù)有限公司

實名認(rèn)證 企業(yè)認(rèn)證
  • 聯(lián)系人:貝意克
  • 手機:17354094989
  • 電話:0551-65146333
  • 營業(yè)執(zhí)照:已審核 營業(yè)執(zhí)照
  • 經(jīng)營模式: 生產(chǎn)加工-私營合伙企業(yè)
  • 所在地區(qū):安徽 合肥市
  • 家家通積分:2223分
詳細(xì)參數(shù)
品牌貝意克型號其他

產(chǎn)品詳情

主要特點

 
    1. 薄膜沉積速率高:采用了甚高頻技術(shù),大大的提高了薄膜的沉積速率,沉積速率可達10?/S;
    2. 大面積均勻性高:采用了先進的多點射頻饋入技術(shù),特殊氣路分布和加熱技術(shù)等,使得薄膜均勻性指標(biāo)達到8%;
    3. 一致性高:用半導(dǎo)體行業(yè)的先進設(shè)計理念,使得一次沉積的各基片之間偏差低于2%;
    4. 工藝穩(wěn)定性高:高度穩(wěn)定的設(shè)備保證了工藝的連續(xù)和穩(wěn)定;
    5. 選配物料噴射系統(tǒng),可將原料直接噴射到反應(yīng)區(qū)。
    6.專利號:ZL201320052532.0  (專利產(chǎn)品,防偽必究)。
 
技術(shù)參數(shù)

 

 

 
 

真空管式爐

爐管尺寸:

外徑Φ50×700mm

極限溫度:

1200℃

溫度控制器:

PID自動控制晶閘管(可控硅)輸出功率,30段可編程控制器

最快升降溫速率:

60

加熱區(qū):

230mm

恒溫區(qū):

100mm

溫度精度:

±1℃

電源:

單相220V,交流50Hz

 

 

 

多通道流量計控制系統(tǒng)

標(biāo)準(zhǔn)量程:

100,200SCCM;(以氮氣標(biāo)定,除以上標(biāo)準(zhǔn)外量程可選)

準(zhǔn)確度:

±1.5%

工作壓差范圍:

0.1~0.5 MPa

最大壓力:

3MPa

接頭類型:

Φ6雙卡套不銹鋼接頭

 

 

高真空系統(tǒng)

                   

 

泵體積流量N2

33 L/S

壓縮比:

≥1011mbar   

實驗真空值:

≤10-6mbar

功率消耗:

140W

啟動時間:

2min

電源要求:

185-265V AC

射頻電源

信號頻率:

13.56MHz±0.005%W

功率輸出范圍:

0-100W

最大反射功率:

10W

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