光刻膠與電子束抗蝕劑 硝酸鈰銨

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第6年

山東德盛新材料有限公司

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詳細參數(shù)
品牌 德盛 規(guī)格型號 16774-21-3
編號 H8CeN8O18 計量單位 1件
付款方式 面議 參考價格 24
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產(chǎn)地 濟寧 發(fā)貨地 濟寧

產(chǎn)品詳情

  • 光刻膠與電子束抗蝕劑：
    利用硝酸鈰銨的強氧化性，可與聚合物（如聚乙烯醇）反應(yīng)形成感光材料，在紫外光或電子束照射下發(fā)生氧化交聯(lián)，實現(xiàn)圖案化加工，適用于微電子器件的光刻工藝。

  • 硝酸鈰銨在銅刻蝕技術(shù)中具有重要應(yīng)用，主要基于其強氧化性，可將銅氧化從而實現(xiàn)刻蝕。相關(guān)介紹如下：

    刻蝕原理：硝酸鈰銨是一種強氧化劑，化學(xué)式為 (NH?)?Ce (NO?)??2H?O6。在銅刻蝕過程中，硝酸鈰銨中的 Ce??具有強氧化性，能將銅單質(zhì)氧化為銅離子，自身被還原為 Ce3?，反應(yīng)方程式可表示為：Cu + 2 (NH?)?Ce (NO?)? = Cu (NO?)? + 2 (NH?)?Ce (NO?)?。

    蝕刻液組成1：硝酸鈰銨可與硫酸等組成蝕刻液，如一種蝕刻鉻銅金屬的蝕刻液中，包含硫酸、硝酸鈰銨、添加劑和水，其中硫酸濃度為 50-400g/l，硝酸鈰銨濃度為 50-500g/l，添加劑濃度為 1-50g/l。

    應(yīng)用場景：硝酸鈰銨常用于集成電路制造等領(lǐng)域的銅刻蝕工藝。例如在銅互連結(jié)構(gòu)制造中，可采用濕法刻蝕工藝，利用硝酸鈰銨和硝酸的混合液去除相關(guān)金屬阻擋層，以便進行后續(xù)的銅電鍍等工藝3。它還可用于印制電路板（PCB）制造中，對銅箔進行刻蝕，形成所需的電路圖案。

    優(yōu)點：硝酸鈰銨參與的刻蝕工藝具有一定優(yōu)勢，如刻蝕速率較快，能夠提高生產(chǎn)效率；可通過調(diào)整蝕刻液成分和工藝條件，較好地控制刻蝕速率和刻蝕精度，滿足精細線路制作的要求。

    注意事項：硝酸鈰銨是強氧化劑，使用時要避免與有機物、還原劑等接觸，以防發(fā)生危險。同時，刻蝕過程中可能會產(chǎn)生一些氮氧化物等有害氣體，需要做好通風(fēng)等防護措施，確保操作環(huán)境安全。


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