產(chǎn)品詳情
平面研磨液粗磨劑的詳細(xì)介紹
產(chǎn)品本質(zhì)：
本司所研發(fā)生產(chǎn)的粗磨液不含硫、磷、氯添加劑的水性粗磨液，不含強(qiáng)酸、強(qiáng)堿，不具有毒性、氧化性和燃性，具有良好的去污性、防銹和清洗性能，粗磨液能提高磨削效率，減少磨具的磨損，對(duì)工作有保護(hù)及潤(rùn)滑作用，提高工件表面光潔度和光亮度。并能使金屬制品超過(guò)原來(lái)的光澤，其污水排放符合環(huán)保要求。根據(jù)各種材質(zhì)的工件磨拋需要，研制成不同的粗磨液，可自行選擇。
特性參數(shù)：
外觀 ：乳白色稠狀液體
比重 ：1.20 ± 0.02
固含量 ：40.0 ± 1.0 %
有效含量 ：> 40 %
pH值 ：8.0 ± 1.0
平均原生粒徑：30 -100nm
穩(wěn)定性: 2年
使用注意事項(xiàng)：
由于產(chǎn)品在貯存一段時(shí)間后，會(huì)逐漸增稠甚至呈凍狀，所以在使用時(shí)建議以水：溶液= 1：1的比例兌稀，并建議使用分散設(shè)備攪拌均勻（效果更好）后再添加。在添加時(shí)，還應(yīng)該注意體系的粘度，避免由于基料粘度太低或剪切速率低而導(dǎo)致的重絮凝問(wèn)題。
應(yīng)用范圍：
廣泛用于納米級(jí)的化學(xué)機(jī)械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、硬盤(pán)盤(pán)片、手機(jī)配件、電腦配件、顯示屏、寶石等納米級(jí)及亞納米級(jí)拋光加工。
溫馨提示
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