產(chǎn)品詳情
電子元器件清洗超純水設(shè)備
電子元器件包括半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對清洗用水質(zhì)的要求也越高。我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)要求分為五個行業(yè)等級，為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，用來滿足電子元器件行業(yè)用水要求。
電子元器件用超純水處理設(shè)備在20世紀(jì)90年代開始逐漸發(fā)展發(fā)展起來，也是純水生產(chǎn)技術(shù)的一次革命式的跨越，應(yīng)用到的領(lǐng)域也很多。
電子元器件清洗用超純水處理設(shè)備工藝詳情：
1、鹽處理(EDI)：主要去除水中的各種無機(jī)鹽離子。出水符合國家純凈水標(biāo)準(zhǔn)GB-17324-98，超純水電阻率：10-18MΩ·CM。
2、石英砂過濾：濾除原水中細(xì)小顆粒、懸浮物、膠體等雜質(zhì)。
3、活性炭過濾：除去水中游離氯和有機(jī)物以保護(hù)反滲透設(shè)施。
4、阻垢劑加藥：防止反滲透膜受難溶鹽結(jié)垢的污染。
5、精密過濾：截留原水中的大于5微米的顆粒，以保證反滲透膜不被大顆粒的懸浮物劃傷。
6、高壓泵：為反滲透膜提供足夠的進(jìn)水壓力，以保證反滲透正常產(chǎn)水量。
7、反滲透裝置：主要去除水中的各種無機(jī)鹽離子。
