產(chǎn)品詳情
SCR脫硝氨逃逸監(jiān)測(cè)分析儀系統(tǒng)（高溫抽取激光)
關(guān)鍵詞：TK-1100污染源在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng),氨逃逸,激光氨逃逸,脫硝氨逃逸,脫硝分析儀,煙氣分析系統(tǒng),氨逃逸監(jiān)測(cè)系統(tǒng),SCR氨逃逸,NH3分析儀,逃逸氨分析儀, 氨逃逸系統(tǒng),氨逃逸分析儀,氨逃逸率分析儀,水泥窯sncr氨逃逸,scr脫硝氨逃逸,激光nh3分析儀,氨逃逸監(jiān)測(cè),氨逃逸激光,氨逃逸激光分析儀,氨逃逸監(jiān)測(cè)儀,激光氨逃逸分析儀,激光氨逃逸分析系統(tǒng),氨逃逸設(shè)備,scr脫硝氨逃逸率,激光分析系統(tǒng),激光逃逸氨系統(tǒng),脫硝氨逃逸分析儀,氨逃逸儀器
產(chǎn)品圖片：
產(chǎn)品介紹：
品牌: SINZEN（新澤儀器）
型號(hào):TK-1100型
廠家:山東新澤儀器有限公司
一、產(chǎn)品概述（煙氣氨逃逸監(jiān)測(cè)分析儀系統(tǒng)（高溫抽取激光)）
脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（TK-1100型）是由我公司榮譽(yù)出品，本系統(tǒng)包括預(yù)處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜（DOAS）技術(shù)及可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)；紫外差分吸收光譜技術(shù)原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過(guò)對(duì)連續(xù)光譜做算法分析，可同時(shí)測(cè)量多種氣體，有效避免各組分相互干擾；激光光譜氣體分析技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用到對(duì)于靈敏度、響應(yīng)時(shí)間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測(cè)領(lǐng)域。
本公司生產(chǎn)的脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（TK-1100型）耐用且易于安裝，特別適用于眾多環(huán)保及工業(yè)過(guò)程氣體排放監(jiān)測(cè)，包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等。
二、氨逃逸形成及危害
2.1 氨逃逸的形成
在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領(lǐng)域，例如燃煤發(fā)電廠，都安裝了前燃（pre-combustion)或后燃（post combustion）NOX 控制技術(shù)的脫硝裝置，后燃NOX 控制技術(shù)可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR)，但是無(wú)論應(yīng)用哪種方法，基本原理都是一樣的，即都是通過(guò)往反應(yīng)器內(nèi)注入氨與氮氧化物發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過(guò)尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式，無(wú)論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應(yīng)區(qū)的空間分布便可以最大化的降低NOX 排放。
氨注入的過(guò)少，就會(huì)降低還原轉(zhuǎn)化效率，氨注入的過(guò)量，不但不能減少NOX 排放，反而因?yàn)檫^(guò)量的氨導(dǎo)致NH3 逃逸出反應(yīng)區(qū)，逃逸的NH3 會(huì)與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應(yīng)生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會(huì)在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預(yù)熱器扇面上，會(huì)造成嚴(yán)重的設(shè)備腐蝕，并因此帶來(lái)昂貴的維護(hù)費(fèi)用。在反應(yīng)區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時(shí)也會(huì)出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很?chē)?yán)重的問(wèn)題。
2.2氨逃逸的危害
（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費(fèi)，環(huán)境污染；
（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；
（3）逃逸的氨氣，會(huì)與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結(jié)性）使位于脫銷(xiāo)下游的空預(yù)器蓄熱原件堵塞與腐蝕；
（4）過(guò)量的逃逸氨會(huì)被飛灰吸收，導(dǎo)致加氣塊（灰磚）無(wú)法銷(xiāo)售；
三、規(guī)格與技術(shù)參數(shù)
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指標(biāo) |
測(cè)量范圍 |
0-10.0ppm，0-50.0ppm 可根據(jù)用戶需求設(shè)定 |
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響應(yīng)時(shí)間 |
<20s |
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線性誤差 |
<1%F.S |
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零點(diǎn)漂移 |
可忽略 |
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重復(fù)性 |
1%F.S |
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標(biāo)定 |
出廠時(shí)已標(biāo)定，無(wú)需定期標(biāo)定 |
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輸入和輸出信號(hào) |
模擬量輸出 |
4-20mA電流環(huán)，750ΩMax，隔離 |
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報(bào)警輸出 |
濃度超限、溫度異常、系統(tǒng)故障均報(bào)警 |
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繼電器輸出 |
2路（可擴(kuò)展），觸點(diǎn)負(fù)載24V，2A |
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通訊接口 |
RS485，雙端隔離 |
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工作條件 |
環(huán)境溫度 |
(-20)～50℃ |
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保護(hù)等級(jí) |
IP54 |
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工作電壓 |
200V-240VAC，50Hz |
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電源功耗 |
≤3000W |
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預(yù)熱時(shí)間 |
1小時(shí) |
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伴熱溫度 |
180℃～240℃ |
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采樣流量 |
2～20L/min（可根據(jù)用戶需求定制） |
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尺寸 |
機(jī)柜 |
1000×1200×600mm（默認(rèn)尺寸） |
四、氨逃逸系統(tǒng)流路簡(jiǎn)介
本系統(tǒng)的流路主要由測(cè)量流路、反吹流路、標(biāo)定流路及渦旋制冷流路組成，具體流路示意圖如下：
系統(tǒng)進(jìn)入測(cè)量狀態(tài)后，電動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)帶動(dòng)兩通球閥切換到采樣氣路，在引流泵的作用下，被測(cè)氣體經(jīng)由探頭桿、，兩通球閥、二級(jí)過(guò)濾器進(jìn)入NH3模塊，NH3模塊利用吸收技術(shù)（TDLAS）對(duì)氣體進(jìn)行分析，得到NH3的濃度（高溫?zé)釢穹ǎ?，最后排空?/span>
系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入校準(zhǔn)狀態(tài)進(jìn)行自動(dòng)調(diào)零，此時(shí)兩通球閥切換到校準(zhǔn)氣路，校準(zhǔn)電磁閥打開(kāi)，在引流泵的作用下，環(huán)境空氣經(jīng)過(guò)濾器、校準(zhǔn)電磁閥后進(jìn)入氣體室，對(duì)氣體室中殘留的被測(cè)氣體進(jìn)行吹掃，吹掃干凈后，對(duì)NH3進(jìn)行一次調(diào)零；系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入反吹狀態(tài)對(duì)采樣探頭進(jìn)行反吹，此時(shí)兩通球閥切換到反吹氣路，反吹電磁閥打開(kāi)，系統(tǒng)自動(dòng)控制反吹電磁閥開(kāi)或關(guān)，實(shí)現(xiàn)對(duì)探頭過(guò)濾器的反吹。
五、氨逃逸系統(tǒng)取樣及機(jī)箱
取樣探頭
裝置是具有電加熱伴熱功能，能自行加熱并實(shí)施溫控的采樣裝置。該裝置適用于高溫、高粉塵濃度的SCR/SNCR裝置入口和出口樣氣的連續(xù)采集。示意圖如下：
結(jié)構(gòu)：裝置由取樣管、探頭法蘭、取樣法蘭管、濾芯、反吹氣罐、反吹電磁閥、探頭保溫罩等組成。
機(jī)箱規(guī)格：
本系統(tǒng)集成于機(jī)箱，具體尺寸如下圖：
山東新澤儀器有限公司
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